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磁控溅射技术是什么?

磁控溅射技术属于PVD(物理气相沉积)技术的一种,是制备薄膜材料的重要方法之一。

化学气相沉积(CVD)技术 -台风资讯

CVD(化学气相沉积)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。 从理论上来说,它是很简单的:两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内,然后他们相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子,它是由硅烷和氮反应形成的。

热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石涂层制备设备厂家《地震资讯》

金刚石作为超宽带隙半导体材料,具有高载流子迁移率、高热导率、高击穿电场、高载流子饱和速率和低介电常数等优异物理特性,被认为是制备下一代高功率、高频、高温及低功率损耗电子器件的“终极半导体”。

真空镀膜机适用范围介绍

真空镀膜机应用领域很广泛,各行各业都有用到,光学领域,汽车装饰零配件,电子,陶瓷等等,用在不同的行业,真空镀膜机名字不一样,下面详细和大家划分一下类目,希望能帮助到大家:

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